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J-GLOBAL ID：200903001769089650

パターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法

Inventor：
高橋 秀知

About 高橋 秀知


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (3)： 廣田 浩一 ,  流 良広 ,  松田 奈緒子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004213393
Publication number (International publication number)：2006030897
Application date： Jul. 21, 2004
Publication date： Feb. 02, 2006
Summary：
【課題】 凹凸追従性に優れ、感光層の感度低下を抑制可能であると共に、該感光層が低温でラミネート可能であり、かつ、基体の予備加熱が不要となるため短時間で転写でき、しかもエッジフュージョン現象を抑制可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 【解決手段】 支持体上に、クッション層と感光層とを有し、該クッション層が分岐状ポリマーを含むことを特徴とするパターン形成材料である。該パターン形成材料を備え、光を照射可能な光照射手段と、該光照射手段からの光を変調し、該パターン形成材料における感光層に対して露光を行う光変調手段とを少なくとも有することを特徴とするパターン形成装置である。該感光層に対し、露光を行うことを少なくとも含むことを特徴とするパターン形成方法である。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
支持体上に、クッション層と感光層とを有し、該クッション層が分岐状ポリマーを含むことを特徴とするパターン形成材料。
IPC (3)：
G03F 7/11 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/20
FI (3)：
G03F7/11 503 ,  G03F7/004 512 ,  G03F7/20 505
F-Term (27)：
2H025AB11 ,  2H025AB15 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC32 ,  2H025BC42 ,  2H025BC51 ,  2H025CA01 ,  2H025CA14 ,  2H025CA18 ,  2H025CA28 ,  2H025CA30 ,  2H025CA39 ,  2H025CA48 ,  2H025CA50 ,  2H025CB42 ,  2H025CB52 ,  2H025DA33 ,  2H025DA40 ,  2H025EA08 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  2H097AB05 ,  2H097CA17 ,  2H097FA01 ,  2H097FA06 ,  2H097LA09
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
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