新規なスルホニウム塩化合物、その製造方法およびその用途

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：倉内義朗
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002361803
Publication number (International publication number)：2003246774
Application date： Dec. 13, 2002
Publication date： Sep. 02, 2003
Summary：

【要約】【課題】光照射により発生するアニオン由来の酸性物質により、周辺環境が汚染されたり悪影響を被ることがないような、2-ナフトイルメチルテトラメチレンスルホニウム塩、並びにその製造方法を提供する。【解決手段】光酸発生剤として有用な、式(1)の2-ナフトイルメチルテトラメチレンスルホニウムカンファースルホネート、並びに、2-ナフトイルメチルテトラメチレンスルホニウムブロマイドをカンファースルホン酸アンモニウムと塩交換する上記化合物の製造方法。【化1】

Claim (excerpt)：

式(1)の2-ナフトイルメチルテトラメチレンスルホニウムカンファースルホネート。【化1】

IPC (2)：

C07C309/25 , C07D333/46

FI (2)：

C07C309/25 , C07D333/46

F-Term (2)：

4H006AA01 , 4H006AB40

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-098796 Applicant：東京応化工業株式会社
光モジュール製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-057189 Applicant：株式会社日立製作所
光硬化性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-236042 Applicant：株式会社東芝

Show all

Cited by examiner (4)

下層膜用組成物およびこれを用いたパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-186575 Applicant：株式会社東芝
ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-331785 Applicant：富士写真フイルム株式会社
ネガ型感光性組成物およびこれを用いたパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-039331 Applicant：株式会社東芝

Show all

Return to Previous Page