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J-GLOBAL ID：200903001813750068
基板の熱処理装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
間宮 武雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996195637
Publication number (International publication number)：1998022229
Application date： Jul. 04, 1996
Publication date： Jan. 23, 1998
Summary：
【要約】【課題】 炉体内へ基板を搬入し蓋体で炉口を閉塞した後、酸素濃度測定手段により低濃度の酸素を含むガスの酸素濃度を測定することが可能になるまでの無駄な待ち時間を無くし、基板1枚当たりの処理時間を短縮できる装置を提供する。【解決手段】 炉体10内の、炉口12付近のガスを吸入するサンプリング用配管40に、窒素ガス供給源42に流路接続された窒素ガス供給用配管44を接続し、ストップバルブ54により、炉口の開放時にサンプリング用配管内へ窒素ガスを供給し、蓋体16による炉口の閉塞時に窒素ガス供給源とサンプリング用配管との連通を遮断してサンプリング用配管を通し酸素濃度計30へ炉体内のガスを導入するように切り替える。
Claim (excerpt)：
基板の搬入および搬出を行うための炉口を有し、基板を枚葉で収容する炉体と、この炉体内に収容された基板の熱処理特に前記炉口を気密に閉塞し、炉体内への基板の搬入時および炉体内からの基板の搬出時に前記炉口を開放する蓋体と、前記炉体内の、前記炉口付近のガスを吸入するサンプリング用配管と、このサンプリング用配管に流路接続され、サンプリング用配管を通して導入されたガスの酸素濃度を測定する酸素濃度測定手段とを備えた基板の熱処理装置において、前記サンプリング用配管に、不活性ガス供給源に流路接続された不活性ガス供給用配管を接続するとともに、前記炉体の炉口が開放されている時に前記不活性ガス供給用配管を通し前記不活性ガス供給源と前記サンプリング用配管とを連通させてサンプリング用配管内へ不活性ガスを供給し、炉体の炉口が前記蓋体によって閉塞されている時に不活性ガス供給源とサンプリング用配管との連通を遮断してサンプリング用配管を通し前記酸素濃度測定手段へガスを導入するように切り替える切替え手段を設けたことを特徴とする基板の熱処理装置。
Patent cited by the Patent：
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