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J-GLOBAL ID：200903001835791531

有機塩素系ガスの処理装置

Inventor： 平山 照康 ,  丹羽 千明
Applicant, Patent owner： 清水建設株式会社
Agent (1)： 志賀 正武 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998294596
Publication number (International publication number)：2000107565
Application date： Sep. 30, 1998
Publication date： Apr. 18, 2000
Summary：

【要約】【課題】 有機塩素系ガスを効率的かつ安価に処理する。【解決手段】 処理対象ガスが導入される反応容器1内に、有機塩素系ガスを吸着可能な吸着剤を担体としてそれに該ガスを光化学反応により分解可能な光触媒を担持せしめてなる吸着分解処理剤4を充填し、反応容器内の下部から流動化ガスを吹き込んで吸着分解処理剤を流動状態として処理対象ガスと接触反応せしめる。反応容器内には吸着分解処理剤に対して光を照射して光触媒の光化学反応を促進するランプ(光源)10を設ける。吸着分解処理剤としては粒状活性炭を吸着剤としてそれに光触媒としての酸化チタンを担持せしめてなるものが好適である。

Claim (excerpt)：

有機塩素系ガスを分解処理する装置であって、処理対象ガスが導入される反応容器内に、有機塩素系ガスを吸着可能な吸着剤を担体としてそれに該ガスを光化学反応により分解可能な光触媒を担持せしめてなる吸着分解処理剤を充填し、該反応容器内の下部から流動化ガスを吹き込んで前記吸着分解処理剤を流動状態として処理対象ガスと接触せしめ、かつ前記反応容器内には前記吸着分解処理剤に対して光を照射して前記光触媒の光化学反応を促進する光源を設けてなることを特徴とする有機塩素系ガスの処理装置。

IPC (6)：

B01D 53/70 ,  B01D 53/12 ,  B01D 53/86 ,  B01D 53/86 ZAB ,  B01J 21/06 ,  B01J 35/02

FI (6)：

B01D 53/34 134 E ,  B01D 53/12 ,  B01J 21/06 A ,  B01J 35/02 J ,  B01D 53/36 J ,  B01D 53/36 ZAB G

F-Term (42)：

4D002AA21 ,  4D002BA03 ,  4D002BA05 ,  4D002CA09 ,  4D002DA41 ,  4D002DA45 ,  4D002DA46 ,  4D002DA70 ,  4D002EA02 ,  4D002EA13 ,  4D002EA14 ,  4D002HA02 ,  4D012CA11 ,  4D012CA12 ,  4D012CC14 ,  4D012CG01 ,  4D012CG03 ,  4D012CH05 ,  4D048AA11 ,  4D048AB03 ,  4D048BA05X ,  4D048BA07X ,  4D048BA41X ,  4D048BB01 ,  4D048CA07 ,  4D048CB03 ,  4D048EA01 ,  4G069BA03B ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA07B ,  4G069BA08A ,  4G069BA08B ,  4G069BA48A ,  4G069CA02 ,  4G069CA05 ,  4G069CA10 ,  4G069CA19 ,  4G069DA07 ,  4G069EA01Y ,  4G069EC22Y ,  4G069ZA01B