Pat

J-GLOBAL ID：200903001841395206

縦型基板ステージ装置およびこれを用いた露光装置

Inventor： 松井 紳
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 阪本 善朗
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993186664
Publication number (International publication number)：1995086118
Application date： Jun. 30, 1993
Publication date： Mar. 31, 1995
Summary：

【要約】【目的】 ウエハチャックから落下したウエハを露光室の外へ自動的に回収する。【構成】 ウエハチャック14に保持されたウエハWaはXY粗動ステージ12によってX,Y方向へステップ移動される。ウエハチャック14の移動路の下にはウエハチャック14から落下するウエハWaを受けとめる溝形部材31が設けられ、溝形部材31に落下したウエハは回収ハンド32によって露光室10の外へ搬送される。

Claim (excerpt)：

減圧室に設けられた基板保持手段と、該基板保持手段の下に配設された受取手段と、該受取手段に落下した基板を前記減圧室の外へ搬送する搬送手段とを有することを特徴とする縦型基板ステージ装置。

IPC (6)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 9/00 ,  G12B 5/00 ,  G21K 1/06 ,  H01L 21/68

FI (2)：

H01L 21/30 531 A ,  H01L 21/30 531 J