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J-GLOBAL ID:200903001845234355
アルカリ可溶性樹脂及びこれを含むフォトレジスト組成物
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
長谷川 曉司
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996033745
Publication number (International publication number):1997230593
Application date: Feb. 21, 1996
Publication date: Sep. 05, 1997
Summary:
【要約】【課題】 解像力及び耐熱性がよく、しかも保存安定に優れ、熱処理に際して昇華物の発生しないフォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 フェノール類と芳香族アルデヒドとの重縮合物であって環状オリゴマーの含有量が2重量%以下のものを、アルカリ可溶性樹脂の一部として用い、且つフォトレジスト組成物の固形物に占める環状オリゴマー量を0.2重量%以下とする。
Claim 1:
一般式(1)で示されるフェノール類と、一般式(2)で示される芳香族アルデヒドを含むカルボニル化合物との重縮合物であって、環状オリゴマーの含有量が2重量%以下であることを特徴とする芳香族アルデヒド系アルカリ可溶性樹脂。【化1】(式中、R1 は炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基又はヒドロキシ基を示し、mは0〜3の整数を示す。なお、mが2又は3の場合には、複数のR1 は互に同一でも異っていてもよい。)【化2】(式中、R2 は炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基又はヒドロキシ基を示し、nは0〜5の整数を示す。なお、nが2以上の場合には、複数のR2 は互に同一でも異っていてもよい。)
IPC (3):
G03F 7/023 511
, C08G 8/04 NBZ
, H01L 21/027
FI (3):
G03F 7/023 511
, C08G 8/04 NBZ
, H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
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ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-091176
Applicant:三菱化成株式会社
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特開平3-125152
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特開昭60-097347
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レジストパターンの形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-248044
Applicant:富士通株式会社
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ポジ型ホトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-167261
Applicant:東京応化工業株式会社
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ポジ型ホトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-246524
Applicant:東京応化工業株式会社
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Cited by examiner (8)
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ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-091176
Applicant:三菱化成株式会社
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特開平3-125152
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レジストパターンの形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-248044
Applicant:富士通株式会社
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ポジ型ホトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-167261
Applicant:東京応化工業株式会社
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特開昭60-097347
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ポジ型ホトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-246524
Applicant:東京応化工業株式会社
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特開平3-125152
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特開昭60-097347
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