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J-GLOBAL ID：200903001861894411

金属酸化物薄膜パターン形成用組成物およびその形成方法

Inventor： 曽山 信幸 ,  佐々木 剛 ,  小木 勝実
Applicant, Patent owner： 三菱マテリアル株式会社
Agent (1)： 広瀬 章一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993330971
Publication number (International publication number)：1995187669
Application date： Dec. 27, 1993
Publication date： Jul. 25, 1995
Summary：

【要約】【構成】 加水分解性有機金属化合物 (例、金属アルコキシド) および金属ハロゲン化物から選ばれた1種もしくは2種以上の加水分解金属化合物と、放射線照射により水を遊離する水発生剤 (例、o-ニトロベンジルアルコール)と、場合によっては放射線照射により酸を遊離する酸発生剤 (例、オニウム塩)とを含有する溶液を基板上に塗布し、得られた感光性塗膜に画像形成用の放射線照射を行った後、水またはアルコール系溶媒で現像して未露光部を除去し、基板を熱処理して残留する塗膜を金属酸化物に変換させることにより、ネガ型の金属酸化物薄膜パターンを形成する。【効果】 レジスト不要の少ない工程数と少ない照射エネルギーで効率よく低コストでネガ型の鮮明な金属酸化物薄膜パターンを形成できる。現像は水またはアルコールで安全に実施できる。

Claim (excerpt)：

加水分解性有機金属化合物および金属ハロゲン化物から選ばれた1種または2種以上の加水分解性金属化合物と、放射線照射により水を遊離する感光剤とを含有する溶液からなる金属酸化物薄膜パターン形成用組成物。

IPC (15)：

C01G 1/02 ,  C01B 33/12 ,  C01G 9/00 ,  C01G 19/00 ,  C01G 23/00 ,  C01G 23/04 ,  C01G 25/00 ,  C01G 29/00 ,  C01G 30/00 ,  C01G 33/00 ,  C01G 35/00 ,  C01G 55/00 ,  H01G 4/33 ,  H01L 21/288 ,  H05K 1/09