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J-GLOBAL ID：200903001862899441

スパッタ蒸着装置における基板の回転機構

Inventor： 守越 広樹
Applicant, Patent owner： TDK株式会社
Agent (1)： 小林 邦雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004103860
Publication number (International publication number)：2005290425
Application date： Mar. 31, 2004
Publication date： Oct. 20, 2005
Summary：

【課題】 スパッタ蒸着装置の自公転機構は、機械的な駆動機構が非常に複雑であり、装置が非常にコスト高になる欠点が挙げられる。本願発明の目的は、公転するステージを有するスパッタ蒸着装置において、基板を載置する台座の自転機構を工業的に安価に実現することである。【解決手段】 公転ステージ上に基板を搭載したスパッタ蒸着装置において、該基板を載置する台座は、該ステージに対し回転自在に支持されており、該台座に設けられた棒状ピンがステージの周囲に設けられた固定ピンに衝合することにより、該台座が複数回回転する構成とした。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

公転ステージ上に基板を搭載したスパッタ蒸着装置において、該基板を載置する上部台座は、該ステージに対し回転自在に支持されており、該台座に設けられた突起がステージの周囲に設けられた突出部に衝合することにより、該台座が押されて回転することを特徴とするスパッタ蒸着装置。

IPC (1)：

C23C14/34

FI (1)：

C23C14/34 J

F-Term (4)：

4K029DC00 ,  4K029JA02 ,  4K029JA03 ,  4K029JA08

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• スパッタリング装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-065501   Applicant：アネルバ株式会社

Cited by examiner (1)

• スパッタリング装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-065501   Applicant：アネルバ株式会社