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J-GLOBAL ID：200903001863084689
活性エネルギー線硬化性樹脂の製造方法、活性エネルギー線硬化性組成物およびフォトソルダーレジスト組成物
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994055455
Publication number (International publication number)：1995261389
Application date： Mar. 25, 1994
Publication date： Oct. 13, 1995
Summary：
【要約】【目的】有害な不飽和モノエポキシ化合物が残留しない活性エネルギー線硬化性樹脂の製造方法の提供。【構成】カルボキシル基含有ポリマーまたはオリゴマーのカルボキシル基に部分的に、1個のエポキシ基と1個以上のエチレン性不飽和基とを有する化合物を、ルイース酸触媒とルイース酸以外の触媒とを併用して付加させる活性エネルギー線硬化性樹脂の製造方法、該方法により製造される活性エネルギー線硬化性樹脂を含む活性エネルギー線硬化性組成物およびフォトソルダーレジスト組成物。【効果】低毒性、低皮膚刺激性で変異原性の心配の無い活性エネルギー線硬化性樹脂が得られるようになった。本発明により得られる活性エネルギー線硬化性樹脂は、特に、フォトソルダーレジスト組成物に好適に用いることができる。
Claim (excerpt)：
カルボキシル基含有ポリマーまたはオリゴマーのカルボキシル基に部分的に、1個のエポキシ基と1個以上のエチレン性不飽和基とを有する化合物を、ルイース酸触媒とルイース酸以外の触媒とを併用して付加させることを特徴とする活性エネルギー線硬化性樹脂の製造方法。
IPC (4)：
G03F 7/038 501
, G03F 7/038 503
, G03F 7/004 503
, G03F 7/031
Cited by examiner (5)
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