Pat

J-GLOBAL ID：200903001867267583

排ガス中のジメチルスルホキシドの除去方法

Inventor： 山下 安俊 ,  森谷 則正 ,  司城 武洋 ,  味沢 利行
Applicant, Patent owner： 協和化工株式会社
Agent (1)： 甲斐 正憲
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993342595
Publication number (International publication number)：1995163841
Application date： Dec. 14, 1993
Publication date： Jun. 27, 1995
Summary：

【要約】【目的】 IC処理に伴う排ガス中のジメチルスルホキシドを分解除去する。【構成】 排ガス中のジメチルスルホキシドを当量以上に過剰の次亜塩素酸ナトリウム水溶液で洗浄して分解する第1工程と、過剰の次亜塩素酸ナトリウム水溶液の硫化ナトリウム溶液により還元処理する第2工程とからなる。

Claim (excerpt)：

排ガス中のジメチルスルホキシドを、当量以上に過剰の次亜塩素酸ナトリウム水溶液で洗浄して分解する第1工程と、過剰の次亜塩素酸ナトリウムを硫化ナトリウム水溶液で還元処理する第2工程とからなる排ガス中のジメチルスルホキシドの除去方法。

IPC (2)：

B01D 53/72 ,  B01D 53/34 ZAB

FI (2)：

B01D 53/34 120 D ,  B01D 53/34 ZAB