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J-GLOBAL ID:200903001891665956

洗浄装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 鈴木 喜三郎 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999362671
Publication number (International publication number):2001170574
Application date: Dec. 21, 1999
Publication date: Jun. 26, 2001
Summary:
【要約】【課題】 装置内の沈殿物を効率よく除去できる洗浄装置を提供すること。【解決手段】 洗浄装置1は、洗浄液を用いて洗浄対象物であるワークを洗浄する装置である。洗浄装置1は、第2圧力調整手段35が接続された洗浄槽3と第1圧力調整手段45が接続された沈殿槽4とバッファ槽5と再生器6と貯留槽7とリンス槽8と配管とを有する循環ラインL10と、沈殿槽4に接続された廃液ラインL40と、乾燥槽9を有する乾燥ラインL90と、再生器沈殿槽接続ラインL60と、廃液器10を有する第2廃液ラインL100と、リンス槽バッファ槽接続ラインL80と、洗浄槽沈殿槽第2接続管49とで構成されている。
Claim (excerpt):
洗浄液でワークを洗浄する洗浄槽と、該洗浄槽に通液可能に接続され、洗浄に供された洗浄液が含有する沈殿成分を沈殿させる沈殿槽とを有することを特徴とする洗浄装置。
IPC (2):
B08B 3/02 ,  B08B 3/08
FI (2):
B08B 3/02 C ,  B08B 3/08 Z
F-Term (8):
3B201AA46 ,  3B201AB01 ,  3B201BB04 ,  3B201BB92 ,  3B201CB15 ,  3B201CC01 ,  3B201CC11 ,  3B201CD22
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
  • 特開平2-172579
  • 洗浄機
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平6-114772   Applicant:センサー・テクノロジー株式会社, 株式会社サバスエンジニアリング, デンヨー株式会社
  • 特開昭63-310686
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