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J-GLOBAL ID：200903001892493474

パターン欠陥検出方法とその装置

Inventor： 広井 高志 ,  窪田 仁志 ,  前田 俊二 ,  牧平 坦 ,  岡 健次
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 秋本 正実
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993017567
Publication number (International publication number)：1994229936
Application date： Feb. 04, 1993
Publication date： Aug. 19, 1994
Summary：

【要約】【目的】 検出欠陥寸法を小さく抑えつつ、しかも検出可能焦点深度を大きく保った状態で、被検査パターン中に存在している欠陥を検出すること。【構成】 光源3からの光をピンホール5を介し試料1を照明した状態で、試料1の高さを更新する度に、ピンホール5を試料1に対し相対的に走査しつつ試料1からの反射光をピンホール5を介し画像として検出し、これら複数枚の検出画像より合成画像、または距離画像を得た上、これら画像を予め得られている画像と比較することによって、差異を高段差パターン中に存在している微細欠陥として検出するようにしたものである。

Claim (excerpt)：

顕微鏡の焦点深度を越える段差が形成されている対象物の高さが順次更新される度に、該高さ対応の共焦点顕微鏡画像を検出するようにして、該対象物について検出された複数枚の共焦点顕微鏡画像を用い比較検査することによって、差異パターン形状が欠陥として検出されるようにしたパターン欠陥検出方法。

IPC (4)：

G01N 21/88 ,  G01B 11/24 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/66

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 特開平4-348260
  
• 特開昭61-169705
  
• 特開平4-142055