Pat

J-GLOBAL ID：200903001895957340

炭化水素改質方法

Inventor： 野村 和弘 ,  伊藤 由彦 ,  山崎 清 ,  坂野 幸次
Applicant, Patent owner： 株式会社豊田中央研究所
Agent (1)： 大川 宏
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004122876
Publication number (International publication number)：2005306630
Application date： Apr. 19, 2004
Publication date： Nov. 04, 2005
Summary：

【課題】H2の生成率を向上させるとともに、HC改質反応に要するエネルギー消費量を低減する。【解決手段】少なくともHC及びO2を含むガスをHC改質触媒に接触させることでHCを部分酸化するにあたり、触媒反応系をプラズマ状態とする。 触媒表面の活性酸素種をO2- ではなくO-とすることができると期待され、完全酸化反応を抑制しつつ発熱反応である部分酸化反応を進行させることができる。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

少なくとも炭化水素及び酸素を含むガスを炭化水素改質触媒に接触させることで炭化水素を部分酸化するにあたり、触媒反応系をプラズマ状態とすることを特徴とする炭化水素改質方法。

IPC (4)：

C01B3/40 ,  B01J23/46 ,  B01J23/63 ,  B01J35/10

FI (5)：

C01B3/40 ,  B01J23/46 311M ,  B01J35/10 301A ,  B01J35/10 301J ,  B01J23/56 301M

F-Term (50)：

4G069AA03 ,  4G069AA12 ,  4G069BA05A ,  4G069BA05B ,  4G069BB04A ,  4G069BB04B ,  4G069BC43A ,  4G069BC43B ,  4G069BC71A ,  4G069BC71B ,  4G069CC40 ,  4G069DA06 ,  4G069EA02Y ,  4G069EC02X ,  4G069EC02Y ,  4G069EC03X ,  4G069EC27 ,  4G069FA01 ,  4G069FA02 ,  4G069FB14 ,  4G069FB30 ,  4G069FB31 ,  4G140EA03 ,  4G140EA07 ,  4G140EB12 ,  4G140EC03 ,  4G140EC04 ,  4G140EC08 ,  4G169AA03 ,  4G169AA12 ,  4G169BA05A ,  4G169BA05B ,  4G169BB04A ,  4G169BB04B ,  4G169BC43A ,  4G169BC43B ,  4G169BC71A ,  4G169BC71B ,  4G169CC40 ,  4G169DA06 ,  4G169EA02Y ,  4G169EC02X ,  4G169EC02Y ,  4G169EC03X ,  4G169EC27 ,  4G169FA01 ,  4G169FA02 ,  4G169FB14 ,  4G169FB30 ,  4G169FB31

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 炭化水素の部分酸化用触媒及び該触媒を用いた水素含有ガスの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-129121   Applicant：株式会社日本触媒
• 低温プラズマによる合成ガスの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-331620   Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所