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J-GLOBAL ID：200903001903104130
ガス噴射装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
渡邉 勇 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998124136
Publication number (International publication number)：1999302850
Application date： Apr. 17, 1998
Publication date： Nov. 02, 1999
Summary：
【要約】【課題】 噴射ヘッドの基板対向部の温度を正確に制御し、この部分における分解あるいは凝結を防いで良好な品質の成膜を行なうことができるガス噴射ヘッドを提供する。【解決手段】 成膜室10において基板支持台12に対向して設けられ、基板対向部22に形成されたノズル孔20より基板支持台12に保持された基板Wに向けてガスを噴射するガス噴射ヘッド14において、基板対向部には、径方向に分割されたそれぞれ独立に流通熱媒体の温度及び/又は流量を調整可能な複数の熱媒体流路24,26が設けられている。
Claim (excerpt)：
成膜室において基板支持台に対向して設けられ、基板対向部に形成されたノズル孔より前記基板支持台に保持された基板に向けてガスを噴射するガス噴射ヘッドにおいて、前記基板対向部には、径方向に分割されたそれぞれ独立に流通熱媒体の温度及び/又は流量を調整可能な複数の熱媒体流路が設けられていることを特徴とするガス噴射装置。
IPC (2)：
FI (2)：
C23C 16/44 D
, H01L 21/31 B
