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J-GLOBAL ID：200903001912767061

レジスト組成物

Inventor： 児玉 邦彦
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002110738
Publication number (International publication number)：2003302754
Application date： Apr. 12, 2002
Publication date： Oct. 24, 2003
Summary：

【要約】【課題】感度及び解像力が優れたレジスト組成物を提供する。【解決手段】 活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の脂環構造又は縮合芳香環構造を有するスルフォニウム化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する下記一般式(I)で表される化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物。【化1】一般式(I)中、R1は、水素原子、アルキル基、アリール基、又はシアノ基を表す。Y1及びY2は、各々独立に、アルキル基、アリール基、アラルキル基、又は複素環基を表す。Y1とY2が結合して環を形成しても良い。Yは、縮合芳香環基又は複素環基を表す。Zは、単結合又は2価の連結基を表す。X-は、非求核性アニオンを表す。

IPC (4)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/038 601 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/038 601 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (17)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17