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J-GLOBAL ID:200903001943964329

高度吸収ポリマーを含む吸収構造体及びかかる吸収構造体を含む吸収物品

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 安達 光雄 (外2名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):1999504247
Publication number (International publication number):2002507933
Application date: Jun. 24, 1997
Publication date: Mar. 12, 2002
Summary:
【要約】架橋されたヒドロゲルを極性溶媒を用いて乾燥させることによって製造される多糖ベースの高度吸収材料を含む吸収物品。
Claim (excerpt):
多糖ベースの高度吸収材料を含む吸収構造体において、前記高度吸収材料が架橋可能な多糖ベースのポリマーの形の開始材料を含む溶液の架橋及び乾燥によって製造されること(ただし前記開始材料は架橋反応後、液体膨潤ゲルの形で存在する)、及び架橋された液体膨潤ゲルが極性溶媒を用いた抽出によって乾燥されることを特徴とする吸収構造体。
IPC (8):
B01J 20/26 ,  A61F 13/49 ,  A61F 13/53 ,  A61L 15/60 ,  B32B 5/02 ,  C08L 1/26 ,  C08L 1/32 ,  A61F 5/44
FI (7):
B01J 20/26 D ,  B32B 5/02 A ,  C08L 1/26 ,  C08L 1/32 ,  A61F 5/44 H ,  A41B 13/02 D ,  A61F 13/18 307 A
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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