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J-GLOBAL ID：200903001960334363

ディスク処理装置

Inventor： 左近 祐之
Applicant, Patent owner： 三菱化学株式会社
Agent (1)： 長谷川 曉司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998154032
Publication number (International publication number)：1999353647
Application date： Jun. 03, 1998
Publication date： Dec. 24, 1999
Summary：

【要約】【課題】 磁気ディスク表面にむらの発生がなく均一で、従って、記録・再生特性の優れた磁気ディスクの処理装置の提供。【解決手段】 基板上に磁気記録層を形成する磁気ディスクの製造工程で使用されるディスク処理装置において、ディスクを処理する回転体の軸受けをセラミックスで形成したことを特徴とするディスク処理装置。

Claim (excerpt)：

基板上に磁気記録層を形成する磁気ディスクの製造工程で使用されるディスク処理装置において、ディスクを処理する回転体の軸受けをセラミックスで形成したことを特徴とするディスク処理装置。

IPC (3)：

G11B 5/84 ,  B08B 1/04 ,  B08B 7/04

FI (3)：

G11B 5/84 Z ,  B08B 1/04 ,  B08B 7/04 A