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J-GLOBAL ID：200903001961209295
光ファイバ端面の球面研磨装置の研磨基盤および光ファイバ端面の球面研磨方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
井ノ口 壽
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994184060
Publication number (International publication number)：1996029639
Application date： Jul. 13, 1994
Publication date： Feb. 02, 1996
Summary：
【要約】【目的】 反射戻り光損失を極小にすることができるような光ファイバ端面を研磨するための球面研磨装置の研磨基盤を提供することにある。【構成】 光ファイバを支持したフェルールの先端を前記研磨盤表面に押し当て、前記フェルール先端と研磨盤表面間に研磨のための相対運動をさせて光ファイバ先端を球面に研磨する光ファイバ端面の球面研磨用研磨装置の研磨盤である。前記研磨盤Aは、弾性材質により製造された平板23と、前記平板23の上に研磨剤を含まないフィルム表面を面粗さ数μm以下の凹凸パターン粗面として構成されている軟質プラスチックフィルム24から構成されている。前記軟質プラスチックフィルム24表面を面粗さ2μm以下の凹凸パターンを有する粗面とすることが好ましい。
Claim (excerpt)：
光ファイバを支持したフェルールの先端を前記研磨盤表面に押し当て、前記フェルール先端と研磨盤表面間に研磨のための相対運動をさせて光ファイバ先端を球面に研磨する光ファイバ端面の球面研磨用研磨装置の研磨盤において、前記研磨盤は、弾性材質により製造された平板と、前記平板の上に研磨剤を含まない軟質プラスチックフィルム表面を面粗さ数μm以下の凹凸パターンを有する粗面として構成した光ファイバ端面の球面研磨用研磨盤。
IPC (3)：
G02B 6/32
, B24B 19/00
, G02B 6/36
Cited by examiner (8)
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