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J-GLOBAL ID：200903001967935540

触媒CVD装置

Inventor： 樋口 永
Applicant, Patent owner： 京セラ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993126848
Publication number (International publication number)：1994338491
Application date： May. 28, 1993
Publication date： Dec. 06, 1994
Summary：

【要約】【目的】 円筒状基体に良好な膜質のa-Si系膜を形成できる、電子写真感光体用の触媒CVD装置を提供する。また、一度に複数個の平板状基体または円筒状基体にa-Si系膜を形成できる、量産性に優れた電子写真感光体用の触媒CVD装置を提供する。【構成】 内周面にガス吹き出し孔32を有する容器22の内部に、それぞれ大小の径を有する筒状の熱触媒体25と基体支持体23とを中心軸がほぼ同一となるように配設すると共に、上記熱触媒体25をガスが透過する構造と成し、上記基体支持体23の外周面に被成膜用基体24を設け且つ内側に基体温度設定手段を付設して成ることを特徴とする触媒CVD装置。

Claim (excerpt)：

内周面にガス吹き出し孔を有する容器の内部に、それぞれ大小の径を有する筒状の熱触媒体と基体支持体とを中心軸がほぼ同一となるように配設すると共に、上記熱触媒体をガスが透過する構造と成し、上記基体支持体の外周面に被成膜用基体を設け且つ内側に基体温度設定手段を付設して成る触媒CVD装置。

IPC (6)：

H01L 21/31 ,  B41J 2/385 ,  C23C 16/44 ,  G03G 5/08 360 ,  H01L 21/205 ,  H01L 31/04

FI (2)：

B41J 3/16 101 ,  H01L 31/04 V