解析モデルの生成方法および装置ならびに射出成形過程の解析方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997052012
Publication number (International publication number)：1998255077
Application date： Mar. 06, 1997
Publication date： Sep. 25, 1998
Summary：

【要約】【課題】数値解析モデルの生成にあたり、人手による入力作業を極力なくし、かつ複雑な3次元形状を安定してメッシュ分割することができる。これにより、数値解析にかかる期間や労力を大幅に短縮しうる解析モデルの生成方法を提供すること。【解決手段】計算領域の表面形状を定義し、多数の多面体微小要素からなる規格化分割空間を定義し、これら多数の多面体微小要素のうち計算領域に含まれる部位の体積の割合が所定の最小充満率より小さい微小要素を取り除いて、残りの微小要素の集合をもって計算領域を近似する解析モデルとする。

Claim (excerpt)：

数値解析の対象となる計算領域より多数の微小な多面体の要素からなる解析モデルを生成する方法であって、前記計算領域の表面形状を定義する表面形状定義工程と、多数の多面体微小要素からなる規格化分割空間を定義する規格化分割空間定義工程と、前記多数の多面体微小要素のうち前記計算領域に含まれる部位の体積の割合が所定の最小充満率より小さい前記微小要素を取り除く微小要素選択工程とを備え、残りの前記微小要素の集合をもって計算領域を近似する解析モデルとすることを特徴とする解析モデルの生成方法。

IPC (2)：

G06T 17/20 , B29C 45/76

FI (2)：

G06F 15/60 612 J , B29C 45/76

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

数値解析用要素作成システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-126080 Applicant：株式会社日立製作所

Return to Previous Page