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J-GLOBAL ID：200903001977797839

シロキサン化合物及びその製造方法

Inventor： 亀井 正直 ,  大橋 博司
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 小島 隆司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991167466
Publication number (International publication number)：1993032784
Application date： Jun. 13, 1991
Publication date： Feb. 09, 1993
Summary：

【要約】【構成】 下記一般組成式(1)【化1】[但し、式中R1は炭素数1〜20の置換もしくは非置換の一価炭化水素基又は-OR4(R4は水素原子又は炭素数1〜8の置換もしくは非置換の一価炭化水素基である。)で示される基であり、R2はR1と同様の基又は下記式(2)【化2】【効果】 本発明のシロキサン化合物は、シリコーンとピロリドンとの特徴を重ね備えており、特に水溶性に優れ、しかも分子中に反応性基を有するもので、繊維処理剤や化粧品として、更には汎用プラスチック、エンジニアリングプラスチック、半導体封止材料等の樹脂改質にも有効に利用できるものであって、応用用途の範囲が広いものである。

Claim (excerpt)：

下記一般組成式(1)【化1】[但し、式中R1は炭素数1〜20の置換もしくは非置換の一価炭化水素基又は-OR4(R4は水素原子又は炭素数1〜8の置換もしくは非置換の一価炭化水素基である。)で示される基であり、R2はR1と同様の基又は下記式(2)【化2】

IPC (7)：

C08G 77/26 NUJ ,  A61K 7/00 ,  C07F 7/10 ,  C08G 77/14 NUG ,  C08G 77/28 NUF ,  C08G 77/44 NUK ,  D06M 15/643