磁気記録媒体の製造方法

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：藤村康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995347842
Publication number (International publication number)：1996227525
Application date： Dec. 15, 1995
Publication date： Sep. 03, 1996
Summary：

【要約】【目的】保磁力やS/N比等の記録媒体の特性向上を図ることのできる磁気記録媒体の製造方法を提供する。【構成】インライン型スパッタ装置を用いて基板上に少なくとも、一以上の下地層2、CoPtを主成分とする磁性膜3、非磁性膜4およびCoPtを主成分とする磁性膜5からなる磁性層を順次形成する磁気記録媒体の製造方法であって、磁性層と接する下地膜2cおよび/または非磁性膜4を低スパッタ電力で成膜する。また、その際、各膜の組成やスパッタ条件を制御して、各膜の結晶格子間隔差を所定の範囲とする。

Claim (excerpt)：

基板を搬送しつつ複数配列されたスパッタターゲットの配列順に順次成膜を行うインライン型スパッタ装置を用いて、基板上に少なくとも、一以上の下地層と、CoPtを主成分とする合金からなる磁性膜、Crを主成分とする合金からなる非磁性膜およびCoPtを主成分とする合金からなる磁性膜とからなる磁性層とを順次形成する磁気記録媒体の製造方法であって、磁性層と接する下地層および/または非磁性膜を100〜1000Wの範囲の低スパッタ電力で成膜することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。

IPC (5)：

G11B 5/85 , C23C 14/14 , C23C 14/34 , G11B 5/66 , G11B 5/84

FI (7)：

G11B 5/85 C , C23C 14/14 G , C23C 14/14 F , C23C 14/34 V , C23C 14/34 R , G11B 5/66 , G11B 5/84 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

磁気記録媒体及び磁気記憶装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-329154 Applicant：株式会社日立製作所
特開平4-232613

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