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J-GLOBAL ID：200903002000636370

有機ケイ素化合物処理顔料、その製法および化粧料

Inventor： 長谷川 幸夫 ,  三好 良太 ,  今井 功
Applicant, Patent owner： 有限会社三好化成
Agent (1)： 萼 経夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992173861
Publication number (International publication number)：1993339518
Application date： Jun. 08, 1992
Publication date： Dec. 21, 1993
Summary：

【要約】【構成】分子内にアミノ水素基、ハロゲン原子、水酸基またはアルコキシ基を有する直鎖状の反応性アルキルポリシロキサンを加熱処理により顔料または体質顔料の表面に配向吸着させた有機ケイ素化合物処理顔料、その製法および前記顔料を含む化粧料。【効果】本発明の処理顔料はシリコーンの吸着性が高く、残留水素がなく、非常に滑らかで、付着性が良く、微粒子である着色顔料の展色性に優れたものである。このため、本処理顔料は、パウダーファンデーション、リキッドファンデーション、ルージュ、アイシャドー等のメックアップ化粧料に配合され、品質向上に著しく貢献する。

Claim (excerpt)：

分子内にアミノ水素基、ハロゲン原子、水酸基またはアルコキシ基を有する直鎖状の反応性アルキルポリシロキサンを加熱処理により顔料または体質顔料の表面に配向吸着させたことを特徴とする有機ケイ素化合物処理顔料。

IPC (2)：

C09C 3/12 PCH ,  A61K 7/02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭62-087237
  
• 特開平1-182368
  
• 特開平1-318070
  
• 特開平3-258866