Pat
J-GLOBAL ID:200903002025997032
近視野光発生素子の作製方法
Inventor:
,
,
,
,
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
坂上 正明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000377254
Publication number (International publication number):2002181684
Application date: Dec. 12, 2000
Publication date: Jun. 26, 2002
Summary:
【要約】【課題】本発明の課題は、簡便な方法で微小な開口を有する近視野光発生素子の作製方法を提供することである。【解決手段】少なくとも一つの錘状突起部を作製する工程と、錘状突起部とほぼ同じ高さを有する開口制御部を作製する工程と、少なくとも錘状突起部を覆う遮光膜を成膜する工程と、略平面を有する押し込み体を用いて錘状突起部と開口制御部に対して同時に力を加えることにより錘状突起部の先端に光学的な開口を形成する工程により、近視野光発生素子を作製する。
Claim (excerpt):
遮光膜で覆われた錐状突起部の先端に光学的な開口をもつ近視野光発生素子の作製方法において、所望の波長を透過する少なくとも一つの錐状突起部を作製する工程と、前記錐状突起部とほぼ同じ高さを有する開口制御部を作製する工程と、少なくとも前記錐状突起部を覆う遮光膜を成膜する工程と、略平面を有する押し込み体を用いて前記錐状突起部と前記開口制御部に対して同時に力を加えることにより前記錐状突起部の先端に光学的な開口を形成する工程と、を含むことを特徴とする近視野光発生素子の作製方法。
IPC (4):
G01N 13/14
, G01N 13/10
, G11B 7/22
, G12B 21/06
FI (4):
G01N 13/14 B
, G01N 13/10 D
, G11B 7/22
, G12B 1/00 601 C
F-Term (5):
5D119AA11
, 5D119AA22
, 5D119BA01
, 5D119JA34
, 5D119NA05
Return to Previous Page