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J-GLOBAL ID：200903002028056425

投射型表示装置

Inventor： 宮下 大聖 ,  小澤 裕
Applicant, Patent owner： セイコーエプソン株式会社
Agent (3)： 上柳 雅誉 ,  藤綱 英吉 ,  須澤 修
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004272888
Publication number (International publication number)：2006091057
Application date： Sep. 21, 2004
Publication date： Apr. 06, 2006
Summary：

【課題】 遮光マスクによって非表示領域を確実かつ正確に遮光することができる投射型表示装置を提供する。【解決手段】 本発明の投射型表示装置100は、光源120と、前記光源の光を変調して画像を形成する光変調装置151,152,153と、前記光変調装置によって変調された画像を投射する投射装置161,162,163と、光経路上に配置され、不要光を遮光する遮光マスク134と、前記画像の非表示領域と前記遮光マスクの遮光範囲とのずれを検出するずれ検出手段としてのセンシング素子212と、前記センシング素子の検出信号に基づいて前記遮光マスクの遮光範囲を修正するマスク位置決め手段、例えば制御信号を出力する制御手段214と、前記制御信号に応じて前記遮光マスクを位置決めする駆動手段216と、を具備することを特徴とする。【選択図】 図6

Claim (excerpt)：

光源と、 前記光源の光を変調して画像を形成する光変調装置と、 前記光変調装置によって変調された画像を投射する投射装置と、 光経路上に配置され、不要光を遮光する遮光マスクと、 前記画像の非表示領域と前記遮光マスクの遮光範囲とのずれ量を検出するずれ量検出手段と、 当該ずれ量検出手段の検出信号に基づいて、前記遮光マスクの遮光範囲を調整する遮光マスク位置決め手段と を具備することを特徴とする投射型表示装置。

IPC (2)：

G03B 21/00 ,  G02F 1/13

FI (2)：

G03B21/00 E ,  G02F1/13 505

F-Term (23)：

2H088EA14 ,  2H088HA06 ,  2H088HA08 ,  2H088HA13 ,  2H088HA14 ,  2H088HA18 ,  2H088HA20 ,  2H088HA21 ,  2H088HA24 ,  2H088HA28 ,  2H088MA20 ,  2K103AA05 ,  2K103AA16 ,  2K103AB01 ,  2K103BC19 ,  2K103BC38 ,  2K103BC47 ,  2K103CA08 ,  2K103CA19 ,  2K103CA26 ,  2K103CA29 ,  2K103CA32 ,  2K103CA54

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 投射型表示装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-350115   Applicant：日本ビクター株式会社