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J-GLOBAL ID：200903002032572918

プラズマ処理装置

Inventor： 小林 直樹 ,  脇田 昌宏
Applicant, Patent owner： 日本碍子株式会社
Agent (2)： 細田 益稔 ,  青木 純雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005021490
Publication number (International publication number)：2006205085
Application date： Jan. 28, 2005
Publication date： Aug. 10, 2006
Summary：

【課題】被処理物を搬送しながら、気体からプラズマを発生させて被処理物をプラズマ処理する装置において、被処理物とプラズマ活性種との接触の効率を向上させ、これによって被処理物の処理効率を向上させるような構造を提供する。【解決手段】プラズマ発生装置は、誘電体31および電極8、8Aを備えている電極装置30、および被処理物21を搬送し、誘電体7に対向して移動させるための搬送手段5を備えている。電極8と搬送手段5との間に電圧を印加することによってプラズマを発生させ、被処理物21を処理する。【選択図】 図3

Claim (excerpt)：

誘電体および電極を備えている電極装置、および被処理物を搬送し、前記誘電体に対向して移動させるための搬送手段を備えており、前記電極と前記搬送手段との間に電圧を印加することによってプラズマを発生させることを特徴とする、プラズマ処理装置。

IPC (4)：

B01J 19/08 ,  A61L 2/14 ,  B08B 7/00 ,  H05H 1/24

FI (4)：

B01J19/08 E ,  A61L2/14 ,  B08B7/00 ,  H05H1/24

F-Term (23)：

3B116AA02 ,  3B116AA03 ,  3B116AA46 ,  3B116AB14 ,  3B116BC01 ,  4C058AA12 ,  4C058AA25 ,  4C058BB06 ,  4C058EE23 ,  4C058KK06 ,  4C058KK26 ,  4C058KK44 ,  4C058KK50 ,  4G075AA22 ,  4G075BA10 ,  4G075EB41 ,  4G075EB42 ,  4G075EC21 ,  4G075EC30 ,  4G075ED11 ,  4G075FA01 ,  4G075FA03 ,  4G075FC15

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

• 滅菌装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-294083   Applicant：藤森工業株式会社
• 大気圧プラズマ処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-049791   Applicant：株式会社リコー
• 多孔性プラズマ放電用電極、大気圧プラズマ放電処理装置、薄膜形成方法及び高機能性フィルム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-142840   Applicant：コニカミノルタホールディングス株式会社
• 特許第3154058
  
• 特許第3403723
  

Cited by examiner (2)

• プラズマCVD装置用電極及びその形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-263260   Applicant：新日本製鐵株式会社
• 非導電性多孔質体改質体の製造方法及び製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-255024   Applicant：日本バイリーン株式会社