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J-GLOBAL ID：200903002065130643

環境汚染有機化合物の無害化処理法及びそのための装置

Inventor：
逸見 彰男

About 逸見 彰男

, 
山崎 幹男

About 山崎 幹男

, 
山崎 俊輔

About 山崎 俊輔


Applicant, Patent owner：
株式会社 ユイ工業

About 株式会社 ユイ工業

, 
逸見 彰男

About 逸見 彰男


Agent (1)： 加茂 裕邦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004336791
Publication number (International publication number)：2005169389
Application date： Nov. 19, 2004
Publication date： Jun. 30, 2005
Summary：
【課題】環境汚染有機化合物、すなわち揮発性有機化合物、低揮発性有機塩素化合物を簡易且つ高効率で無害化して除去する方法及びそのための装置を得る。【解決手段】環境汚染有機化合物の無害化処理法であって、環境汚染有機化合物を含む水溶液に、塩基性金属塩からなる触媒物質を添加して、超音波を照射することにより、環境汚染有機化合物を高効率で除去することを特徴とする環境汚染有機化合物の無害化処理法及びそのための装置。塩基性金属塩としては、ヒドロキシアパタイト、ゼオライト、アロフェン、イモゴライト、カオリナイトなどが用いられ、ゼオライトとしては、天然ゼオライト、合成ゼオライトのほか、ゴミ焼却灰等の無機系廃棄物の水性スラリーから水熱合成による合成途中の非晶質ないし低結晶性のゼオライトを含むスラリーを用いることもできる。【選択図】図7
Claim (excerpt)：
環境汚染有機化合物の無害化処理法であって、環境汚染有機化合物を含む水溶液に、塩基性金属塩からなる触媒物質を添加して、超音波を照射することにより、環境汚染有機化合物を高効率で除去することを特徴とする環境汚染有機化合物の無害化処理法。
IPC (10)：
C02F1/36 ,  B01D53/70 ,  B01D53/77 ,  B01J19/10 ,  B01J27/18 ,  B01J37/34 ,  C02F1/58 ,  C07B35/06 ,  C07B37/06 ,  C07D319/24
FI (9)：
C02F1/36 ,  B01J19/10 ,  B01J27/18 M ,  B01J37/34 ,  C02F1/58 A ,  C07B35/06 ,  C07B37/06 ,  C07D319/24 ,  B01D53/34 134F
F-Term (51)：
4D002AA21 ,  4D002AC10 ,  4D002BA02 ,  4D002CA06 ,  4D002DA45 ,  4D002DA66 ,  4D002DA70 ,  4D002GA01 ,  4D002GB20 ,  4D002HA10 ,  4D037AA11 ,  4D037AB12 ,  4D037AB14 ,  4D037AB16 ,  4D037BA26 ,  4D037BB09 ,  4D038AA08 ,  4D038AB12 ,  4D038AB14 ,  4D038BA02 ,  4D038BB07 ,  4G069AA02 ,  4G069BA07A ,  4G069BA10A ,  4G069BB14A ,  4G069BB14B ,  4G069BC09A ,  4G069BC09B ,  4G069CA05 ,  4G069CA10 ,  4G069CA19 ,  4G069FB58 ,  4G075AA03 ,  4G075AA13 ,  4G075AA37 ,  4G075BA05 ,  4G075BD16 ,  4G075BD17 ,  4G075BD27 ,  4G075CA23 ,  4G075CA54 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  4G075EA02 ,  4G075EB01 ,  4G075EB31 ,  4H006AA05 ,  4H006AC13 ,  4H006BA68 ,  4H006BA71 ,  4H006BA95
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2) Cited by examiner (2)

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