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J-GLOBAL ID：200903002069235172
位置合わせ方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993140580
Publication number (International publication number)：1994275496
Application date： Jun. 11, 1993
Publication date： Sep. 30, 1994
Summary：
【要約】【目的】 各ショット領域に転写されるチップパターン自体の伸縮や回転などの影響を小さく抑え、感光基板上の各ショット領域のチップパターンとレチクルのパターンの投影像とをより高精度に重ね合わせる。【構成】 ウエハ8上の各ショット領域27-nに基準点28-nを原点として複数のアライメントマーク29-n,30-nを形成しておく。所定の個数のアライメントマークのステージ座標系(X,Y)での座標値を計測し、各基準点28-nの設計上の配列座標及びアライメントマークの対応する基準点に対する設計上の相対座標から、アライメントマークのステージ座標系(X,Y)上での計算上の座標を算出するための誤差パラメータを最小自乗法により求める。
Claim (excerpt)：
基板上に配列されマスク上のパターンが転写される複数のショット領域の各々を、前記基板の移動位置を規定する静止座標系内の所定の転写位置に対して位置決わせするに当たって、前記複数のショット領域の内、予め選択された複数のショット領域の前記静止座標系上における座標位置を計測し、該計測された複数の座標位置を統計演算することによって、前記基板上の複数のショット領域の各々の前記静止座標系上における座標位置を算出し、該算出された複数のショット領域の各々の座標位置に従って前記基板の移動位置を制御することによって、前記複数のショット領域の各々を前記転写位置に対して位置合わせする方法において、前記各ショット領域内の基準位置に対してそれぞれ設計上一定の相対位置関係で配置された複数個の位置合わせ用のマークの内、1次元座標を示すマークに換算した場合で、少なくとも7個の前記位置合わせ用のマークを選択し、該選択された位置合わせ用のマークの前記静止座標系上における座標位置を計測する第1工程と、該第1工程で計測された前記静止座標系上における座標位置を統計処理することにより、前記各ショット領域内の前記基準位置の設計上の配列座標及び前記基準位置に対する前記位置合わせ用のマークの設計上の相対配列座標から、前記第1工程で計測された前記静止座標系上の座標位置を算出するための変換パラメータを求める第2工程と、前記変換パラメータの内、前記基準位置に対する前記位置合わせ用のマークの設計上の相対配列座標に関する変換パラメータに基づいて、前記マスクと前記基板との相対回転角と、前記マスクのパターンと前記基板上のショット領域との相対的な形状誤差との少なくとも一方を補正する第3工程と、を有し、前記第2工程で算出された変換パラメータを用いて、前記各ショット領域内の前記基準位置の設計上の配列座標から計算された前記静止座標系上の配列座標に従って前記基板の移動位置を制御することによって、前記複数のショット領域の各々を前記転写位置に対して位置合わせすることを特徴とする位置合わせ方法。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)
Cited by examiner (2)
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