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J-GLOBAL ID：200903002091843356
気液接触装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
,
Agent (1)：
藤巻 正憲
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991202493
Publication number (International publication number)：1993015753
Application date： Jul. 16, 1991
Publication date： Jan. 26, 1993
Summary：
【要約】【目的】 装置コストが低いと共に、気液接触効率が高い気液接触装置を提供する。【構成】 管状部20内に羽根部21,23が配置されたミキシングエレメントを複数個連結したミキサー13をその軸方向を垂直にして配置し、ミキサー13より上方に配置した原水槽15から原水を自然落下させてミキサー13内にその下方から導入し、上方に通流させてその上部からオーバーフローさせる。そして、ミキサー13内にその下方からパイプ11を介して空気を導入し、ミキサー13内を通流する原水に接触させる。これにより、原水中の揮発成分が空気中に物質移動し、原水が浄化される。水をミキサー13内に供給するためのポンプが不要であり、装置コストが低い。
Claim (excerpt)：
管壁部内に螺旋状羽根部が配置されてその管軸方向に流体が通流する複数個の流体通路が前記羽根部により形成されその管軸方向を垂直にして配置された静止型流体混合器と、液体を前記流体混合器よりも高い位置からその静水圧差により前記流体混合器に供給する液体供給手段と、前記流体混合器内に気体を通流させる気体供給手段とを有することを特徴とする気液接触装置。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
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