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J-GLOBAL ID：200903002105665391

マイクロ波プラズマ処理装置

Inventor： 横森 昭仁 ,  数見 秀之 ,  手束 勉 ,  吉岡 健 ,  白川 真司 ,  園部 正
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993178821
Publication number (International publication number)：1995034253
Application date： Jul. 20, 1993
Publication date： Feb. 03, 1995
Summary：

【要約】【構成】磁場中にマイクロ波を放射してプラズマを生成するマイクロ波プラズマ処理装置において、プラズマ発生室1と大気との気密を保つ真空封じ用石英板5及び放電ガス放出機構となる多数の孔11を持つ第二の石英板12は、距離1mm以下の間隔で金属リング6に封着され、金属リング6は円錐形状金属容器3に取り付ける。また、真空封じ用石英板5の厚さは、石英板5中のマイクロ波の波長の半分とする。【効果】真空封じする手段及び放電ガス放出機構の存在によるマイクロ波の乱れや反射が軽減され、かつ、真空封じする手段である誘電体物質のメンテナンスが容易となる。

Claim (excerpt)：

放電ガスが導入され、放電空間を形成するプラズマ発生室と、前記放電空間内に磁場を発生する磁場発生手段と、前記放電空間内にマイクロ波を導入するマイクロ波導入手段と、前記放電空間と前記マイクロ波導入手段の大気側とを真空封じする手段とを備え、前記マイクロ波と前記放電空間内の磁場により生成したプラズマを利用し、前記放電空間内に設置された基板をプラズマ処理するプラズマ処理装置において、前記マイクロ波導入手段は、導波管と、マイクロ波導入端が小径側で前記導波管に接続され、先端部が大径側で前記プラズマ発生室に接続された円錐形状金属容器とからなり、前記真空封じする手段は誘電体の物質からなり、前記真空封じする手段をマイクロ波の良好な反射体に封着し、前記マイクロ波の良好な反射体を前記円錐形状金属容器に取り付けたことを特徴とするマイクロ波プラズマ処理装置。

IPC (2)：

C23C 16/50 ,  C23F 4/00