レーザー照射装置

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：猪股祥晃 , 菊池治 , 猪股弘子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003201195
Publication number (International publication number)：2005040809
Application date： Jul. 24, 2003
Publication date： Feb. 17, 2005
Summary：

【課題】レーザーによる応力改善技術と、レーザー超音波法によるき裂検査技術との保全施工技術は、従来独立した装置として実現されているため、対象となる材料部分に設けられる装置が大型になり、材料が狭あい空間、または狭あいな経路を経由しなければ到達できない空間に位置している場合、保全施工作業が非常に時間がかかり面倒である。【解決手段】第一のレーザー光源1から発振され、材料Mに照射されて材料Mを改質する第一のレーザー光L1と、第二のレーザー光源6から発振され、材料Mに照射されてその反射成分を検出して該当部位のき裂検査または計測をする第二のレーザー光L2とを共通の統合光学系14を介して材料Mに照射するようにする。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

材料に照射され、材料を改質する第一のレーザー光を発振する第一のレーザー光源と、材料に照射され、材料からの反射成分を検出して該当部位の検査または計測をするための第二のレーザー光を発振する第二のレーザー光源と、前記第一および第二のレーザー光が入射され、第一および第二のレーザー光を材料に照射し、かつ前記第二のレーザー光の反射成分を検出する統合光学系と、前記第一および第二のレーザー光をレーザー光源から統合光学系まで伝送し、かつ前記第二のレーザー光の反射成分を伝送するための光伝送手段と、前記第二のレーザー光の反射成分が入射され、反射成分から情報を検知し、電気信号に変換する検査・計測用光学系と、前記検査・計測用光学系から出力される電気信号を信号処理する信号処理手段とからなるレーザー照射装置。

IPC (6)：

B23K26/00 , B23K26/08 , G02B26/10 , G21C17/003 , G21C19/02 , G21D1/00

FI (6)：

B23K26/00 M , B23K26/08 K , G02B26/10 109 , G21C19/02 J , G21D1/00 X , G21C17/00 F

F-Term (14)：

2G075CA07 , 2G075DA16 , 2G075FA16 , 2G075GA15 , 2H045AG09 , 2H045DA31 , 4E068AH00 , 4E068CA17 , 4E068CB09 , 4E068CC01 , 4E068CD01 , 4E068CD08 , 4E068CE08 , 4E068CJ07

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

レーザクラッド装置とその照射位置制御方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-134733 Applicant：石川島播磨重工業株式会社

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