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J-GLOBAL ID：200903002138502196

レジスト用単量体およびレジスト用重合体

Inventor：
大竹 敦

About 大竹 敦

, 
中村 雅

About 中村 雅


Applicant, Patent owner：
三菱レイヨン株式会社

About 三菱レイヨン株式会社


Agent (7)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  西 和哉 ,  村山 靖彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004294849
Publication number (International publication number)：2006104378
Application date： Oct. 07, 2004
Publication date： Apr. 20, 2006
Summary：
【課題】 パターン形状、ドライエッチング耐性、露光後の加熱温度の変化に対する線幅安定性等に優れ、十分な感度を有し、解像度にも優れるレジスト組成物を得ることができるレジスト用重合体、および該重合体を得るためのレジスト用単量体を提供する。【解決手段】 式(2)で表される構成単位を有する重合体であって、式(2)で表される構成単位のうち、式(2-1)で表される構成単位の比率が50モル%以上であるレジスト用重合体。 【化1】 (式中、Rは水素原子またはメチル基を表し、R1 は、酸素原子を含んでいてもよい炭素数1〜20の1価の炭化水素基を表す。)【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
下記式(1)で表される単量体であって、 該単量体のうち、下記式(1-1)で表される単量体の比率が50モル%以上であるレジスト用単量体。
IPC (5)：
C08F 20/28 ,  C07C 69/013 ,  C07C 69/54 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027
FI (5)：
C08F20/28 ,  C07C69/013 C ,  C07C69/54 B ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
F-Term (48)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB46 ,  4H006AB76 ,  4J100AL03Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AU29Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA04P ,  4J100BA05Q ,  4J100BA11Q ,  4J100BA15P ,  4J100BA20P ,  4J100BA40Q ,  4J100BC03P ,  4J100BC04P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC08P ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12P ,  4J100BC12Q ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100BC58Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (4)
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