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J-GLOBAL ID：200903002148193264

フォトマスクの欠陥検査方法

Inventor： 米澤 良
Applicant, Patent owner： レーザーテック株式会社
Agent (1)： 杉村 暁秀 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993169117
Publication number (International publication number)：1995128841
Application date： Jul. 08, 1993
Publication date： May. 19, 1995
Summary：

【要約】【目的】 フォトマスクの欠陥検査を全自動で行なうことができるフォトマスクの欠陥検査装置を提供する。【構成】 ガラス基板にマスクパターンを形成する際マスクパターンの形成条件を表わすアラインメントマークを同時に基板に形成する。欠陥検査に際し光学走査によってアラインメントマークを読み出し、マスクパターンの形成条件を求め、求めたマスクパターンの形成条件に基いて検査条件を設定する。

Claim (excerpt)：

透明基板上にマスクパターンが形成されているフォトマスクの欠陥を検査するに際し、透明基板上にマスクパターンを形成する際マスクパターンの形成条件を表わすアラインメントマークを、前記透明基板のマスクパターンが形成されていない領域にx方向及びこれと直交するy方向に沿って形成し、各マスクパターンの欠陥を検査する際、前記透明基板のアラインメントマークが形成されている領域を光学的に走査して各アラインメントマークの種類及び形成位置を順次検出し、検出したアラインメントマークの種類及び形成位置に基いて欠陥検査条件を求め、求めた欠陥検査条件に従ってフォトマスクの欠陥を検査することを特徴とするフォトマスクの欠陥検査方法。

IPC (3)：

G03F 1/08 ,  G01N 21/88 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭60-021523
  
• 特開昭60-083328