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J-GLOBAL ID：200903002153219239

X線計測装置

Inventor： 平野 辰巳 ,  宇佐美 勝久 ,  上田 和浩
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998113027
Publication number (International publication number)：1999304728
Application date： Apr. 23, 1998
Publication date： Nov. 05, 1999
Summary：

【要約】【課題】2波長以上のX線を用いた反射率測定と対称,非対称,面内の回折線測定から、積層体構造評価の高度な計測が可能なX線計測装置を提供する。【解決手段】2種以上の元素からなるX線ターゲットを用いたX線源、特定の特性X線のみを2回の反射で取り出す分光素子を各特性X線毎に具備したX線計測装置。

Claim (excerpt)：

X線源,分光器,試料及び検出器の駆動台,検出器及び制御部からなり、試料駆動台に設置した試料にX線を照射し、試料からの反射X線及び回折線を測定するX線計測装置において、X線源に少なくとも2種以上の元素からなるX線ターゲットを用いることを特徴とするX線計測装置。

IPC (5)：

G01N 23/20 ,  G01N 23/207 ,  G21K 1/06 ,  G21K 5/08 ,  H01J 35/08

FI (5)：

G01N 23/20 ,  G01N 23/207 ,  G21K 1/06 T ,  G21K 5/08 X ,  H01J 35/08 B