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J-GLOBAL ID：200903002162529801

透光性導電膜の製造方法及び透光性導電膜

Inventor： 中別府 哲也 ,  久保 泰生 ,  菊田 良 ,  吉川 逸治
Applicant, Patent owner： 住友大阪セメント株式会社
Agent (1)： 土橋 皓
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999121907
Publication number (International publication number)：2000311527
Application date： Apr. 28, 1999
Publication date： Nov. 07, 2000
Summary：

【要約】【課題】 所望の微細パターン形状の金属層を有して高い透光性と導電性を兼ね備えた透光性導電膜を、パターン加工のための製版を必要とせず、容易かつ安価に製造することができる透光性導電膜の製造方法、及びこの製造方法により形成された透光性導電膜を提供することを課題とする。【解決手段】 表面にインク受容層を有する基板上に、無電解メッキ触媒を含有するインクをインクジェット記録方式により噴射して所望形状のパターンを形成し、その後無電解メッキ法により前記パターン上に導電性金属を形成するように構成する。

Claim (excerpt)：

表面にインク受容層を有する基板上に、無電解メッキ触媒を含有するインクをインクジェット記録方式により噴射して所望形状のパターンを形成し、その後無電解メッキ法により前記パターン上に導電性金属を形成することを特徴とする透光性導電膜の製造方法。

IPC (3)：

H01B 13/00 503 ,  B32B 3/00 ,  C23C 2/00

FI (3)：

H01B 13/00 503 B ,  B32B 3/00 ,  C23C 2/00

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 特開平4-048507
  
• 透明導電回路形成装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-140476   Applicant：キヤノン株式会社

Cited by examiner (2)

• 特開平4-048507
  
• 透明導電回路形成装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-140476   Applicant：キヤノン株式会社