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J-GLOBAL ID：200903002176440501

化学増幅系レジスト組成物

Inventor： 梶田 徹 ,  小林 英一 ,  村田 誠 ,  三浦 孝夫
Applicant, Patent owner： 日本合成ゴム株式会社
Agent (1)： 大島 正孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992236927
Publication number (International publication number)：1994083058
Application date： Sep. 04, 1992
Publication date： Mar. 25, 1994
Summary：

【要約】【構成】 オニウム塩とスルフィド類および/またはハロゲン化芳香族化合物を含有する化学増幅系レジスト組成物。【効果】 化学増幅系レジストで、解像度および残膜率等を損なうことなく、高感度を実現できる。

Claim (excerpt)：

(a)酸の作用で化学反応を起こして組成物のアルカリ可溶性を促進あるいは抑制する化合物または酸の作用で化学反応を起こしてアルカリ可溶あるいは不溶となる化合物、(b)放射線に感応して酸を発生するオニウム塩、ならびに(c)下記構造式(1)【化1】で示されるスルフィド類および/または下記構造式(2)【化2】で示されるハロゲン化芳香族化合物、を含有することを特徴とする化学増幅系レジスト組成物。

IPC (5)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/038 505 ,  H01L 21/027