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J-GLOBAL ID：200903002186327983
ガラス又はセラミックス基板へのめっき層の形成方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
中村 稔 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994316554
Publication number (International publication number)：1996176835
Application date： Dec. 20, 1994
Publication date： Jul. 09, 1996
Summary：
【要約】【目的】電極やプリント配線板等の導電性層をガラス又はセラミックス基板に設けるに際して、ガラス又はセラミックス基板に対する密着性の優れた導電性層を簡易に製造できるめっき層形成方法の提供。【構成】銅塩又は銀塩を含有する塗料をガラス又はセラミックス基板上に塗装し、乾燥し、焼成した後、無電解めっき処理又は電解めっき処理を行う。
Claim (excerpt)：
銅塩又は銀塩を含有する塗料をガラス又はセラミックス基板上に塗装し、乾燥し、焼成した後、無電解めっき処理又は電解めっき処理を行うことを特徴とするガラス又はセラミックス基板へのめっき層の形成方法。
IPC (6)：
C23C 18/18
, C25D 5/54
, C25D 7/00
, H01L 21/288
, H01L 21/3205
, H05K 3/18
