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J-GLOBAL ID：200903002186852646

蒸留塔の制御方法

Inventor： 伊藤 俊彦 ,  板坂 幸雄 ,  土方 富雄
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995236875
Publication number (International publication number)：1997075604
Application date： Sep. 14, 1995
Publication date： Mar. 25, 1997
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 蒸留塔へ供給される原料混合物の流量及び組成が変動した場合にも低沸点成分一定流量を後置の工程へ安定に供給することができ、かつ熱経済の観点からも有利である蒸留塔の制御方法を提供する。【解決手段】 二種以上の成分を含有する原料混合物1を蒸留塔8に供給して高沸点成分2と低沸点成分3に分離し、得られた低沸点成分を一定流量で後置の工程20へ供給する蒸留塔で、塔頂からの低沸点成分の一部を還流し、その還流量、リボイラー9の加熱量、小型還流ドラム11の冷媒量、原料供給量等を調節することにより、蒸留塔圧力制御、蒸留塔内温度分布制御、小型還流ドラム液面制御をなし、蒸留塔を制御する。

Claim (excerpt)：

二種以上の成分を含有する原料混合物(1)を蒸留塔(8)に供給して高沸点成分(2)と低沸点成分(3)に分離し、得られた低沸点成分を一定流量で後置の工程(20)へ供給する蒸留塔の制御方法であって、下記手段(A)〜(C)を有する蒸留塔の制御方法。(A)蒸留塔圧力制御手段:蒸留塔の頂部から導かれる低沸点成分の気体を二つの流れに分岐し、第一の流れ(5)をその流量を一定に制御しつつ後置の工程へ供給し、第二の流れ(4)を冷却器(10)に導いて液化させ、該液化した低沸点成分の液体を小型還流ドラム(11)を経由して蒸留塔へ還流供給するに際し、該冷却器へ供給する冷媒(7)の流量を調節することにより蒸留塔の圧力を一定に制御する手段(B)蒸留塔内温度分布制御手段:蒸留塔のリボイラー(9)における加熱量及び蒸留塔圧力制御手段における還流量を調節することにより、蒸留塔内の温度分布を制御する手段(C)小型還流ドラム液面制御手段:蒸留塔への原料混合物の供給量及び組成を調節することにより、蒸留塔圧力制御手段における小型還流ドラムの液面を制御する手段