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J-GLOBAL ID：200903002202498670

紫外線カット膜とその成膜用ターゲットおよびその製造方法

Inventor： 多賀 直昭 ,  木田 音次郎 ,  鈴木 すすむ
Applicant, Patent owner： 旭硝子株式会社
Agent (1)： 泉名 謙治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993217214
Publication number (International publication number)：1995070743
Application date： Sep. 01, 1993
Publication date： Mar. 14, 1995
Summary：

【要約】【構成】セリウム成分が10モル%〜90モル%に対して、チタン成分を90モル%〜10モル%含み、ターゲットの体積抵抗が100000Ω・cm以下であるスパッタリングターゲットとその製造方法および該ターゲットを用いて成膜される紫外線カット膜。【効果】DCスパッタリングで成膜することが可能となり、大面積にわたり、高速で安定的に紫外線カット特性を示す透明薄膜を安価に提供できる。

Claim (excerpt)：

セリウム(Ce)とチタン(Ti)と酸素(O)によって構成されるスパッタリング用ターゲットの製造方法において、Ceおよび/またはCeO<SB>x</SB> (0<x≦2)からなる粉末とTiおよび/またはTiO<SB>y</SB> (0<y≦2)からなる粉末との混合粉末を非酸化性雰囲気中で高圧プレスした後、焼成することを特徴とするスパッタリング用ターゲットの製造方法。