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J-GLOBAL ID：200903002246010623

基板等の薬液処理装置

Inventor： 川島 勉
Applicant, Patent owner： 日曹エンジニアリング株式会社
Agent (1)： 山本 秀樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998133772
Publication number (International publication number)：1999330038
Application date： May. 15, 1998
Publication date： Nov. 30, 1999
Summary：

【要約】【課題】 作業室を面的に小さくでき、メンテナンス性に優れると共に不純物発生による影響を受け難くできる薬液処理装置を実現する。【解決手段】 作業室1内に配置された薬液処理槽3と、被処理物Wである基板等を支持可能な保持手段50と、保持手段50を薬液処理槽3に沿って水平及び上下方向に移動する自動搬送手段30とを備えた薬液処理装置において、作業室1上側の閉板12により区画されて、自動搬送手段30を構成しているモータ等の駆動部を配設すると共に、排気口9を設けた上機械室7と、前記閉板12に設けられて、前記駆動部側に上端側を回転可能に枢支しているアーム36の移動を許容するスリット12aと、該スリット12aの作業室1側から上機械室7に気体を吹き出し、上機械室7の排気口9から排出可能な気体供給経路10とを有している。

Claim (excerpt)：

作業室内に配置された薬液処理槽と、被処理物である基板等を支持可能な保持手段と、前記保持手段を前記薬液処理槽に沿って水平及び上下方向に移動する自動搬送手段とを備えた薬液処理装置において、前記作業室上側の閉板により区画されて、前記自動搬送手段を構成しているモータ等の駆動部を配設すると共に、排気口を設けた上機械室と、前記閉板に設けられて、前記駆動部に上端側を回転可能に枢支しているアームの移動を許容するスリットと、前記スリットの作業室側から前記上機械室へ気体を吹き出し、前記上機械室の排気口から排出可能な気体供給経路、とを有していることを特徴とする基板等の薬液処理装置。

IPC (5)：

H01L 21/304 648 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/02 ,  H01L 21/68

FI (6)：

H01L 21/304 648 L ,  H01L 21/304 648 B ,  H01L 21/304 648 J ,  H01L 21/304 643 B ,  H01L 21/02 D ,  H01L 21/68 A