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J-GLOBAL ID：200903002261539541
半導体製造設備用滑り軸受
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
江原 省吾
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992016437
Publication number (International publication number)：1993209624
Application date： Jan. 31, 1992
Publication date： Aug. 20, 1993
Summary：
【要約】【目的】 平均分子量が5000以下のPTFEからなる潤滑皮膜の優れた特性を滑り軸受においても発揮させる。【構成】 軸受部品1の摺動面1aには多数の微小なくぼみ3がアトランダムに形成され、さらに潤滑皮膜2が島状に形成されている。くぼみ3の形状は母材内部に向いたくさび状をなしている。潤滑皮膜2は相手面5から荷重を受けると、くぼみ3の近傍の皮膜部分2aがくぼみ3に深く入り込む。そして、相手面5との摺動接触によって潤滑皮膜2が滑り摩擦力を受けた場合には、くぼみ3に深く入り込んだ皮膜部分2aが一種のアンカーとなって潤滑皮膜2を摺動面1aに保持する。
Claim (excerpt)：
滑り軸受を構成する部品のうち少なくとも滑り摩擦を生ずる表面に多数の微小なくぼみを形成すると共に、この表面に、平均分子量が5000以下のポリテトラフルオロエチレンからなる潤滑皮膜を形成したことを特徴とする半導体製造設備用滑り軸受。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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