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J-GLOBAL ID：200903002269361725

ケイ素含有化合物及びその製造方法

Inventor： 八代 隆郎 ,  山口 佳一 ,  西脇 功 ,  宇加地 孝志
Applicant, Patent owner： ジェイエスアール株式会社 ,  日本特殊コーティング株式会社
Agent (1)： 樋口 武
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000120099
Publication number (International publication number)：2001302680
Application date： Apr. 20, 2000
Publication date： Oct. 31, 2001
Summary：

【要約】【課題】各種基材の表面に塗膜(硬化膜)を形成し得る樹脂組成物に用いられる反応性粒子の表面修飾剤として有用なラジカル重合開始基を有する新規なケイ素含有化合物を提供する。【解決手段】下記式(1)、(2)又は(3)に示すケイ素含有化合物。【化1】【化2】【化3】

Claim (excerpt)：

下記式(1)、(2)又は(3)に示すケイ素含有化合物。【化1】【化2】【化3】

F-Term (8)：

4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VQ49 ,  4H049VR21 ,  4H049VR43 ,  4H049VS48 ,  4H049VU13 ,  4H049VW02

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 表面に光重合開始剤を有するシリカ微粒子及び該シリカ微粒子を用いた皮膜形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-151184   Applicant：積水化学工業株式会社
• シラン系化合物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-195594   Applicant：三菱レイヨン株式会社
• 特開昭63-254105