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J-GLOBAL ID：200903002269390970

洗浄装置

Inventor：
河田 努

About 河田 努


Applicant, Patent owner：
NECエレクトロニクス株式会社

About NECエレクトロニクス株式会社


Agent (1)： 速水 進治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007240360
Publication number (International publication number)：2009071201
Application date： Sep. 18, 2007
Publication date： Apr. 02, 2009
Summary：
【課題】従来の洗浄装置では、洗浄容器の流入口での洗浄液の圧力の上昇による洗浄異常を防止することができない。【解決手段】洗浄装置110は、ポンプ5により洗浄液3が循環し、上部に流入口を、下部に流出口を有し、内部に被洗浄物を収容する洗浄容器1であって、その洗浄容器1を内部に収容する洗浄塔2の上部に洗浄液3を排出する配管101を備えた構造を有している。【選択図】図1
Claim 1：
上部に流入口を、下部に流出口を有し、内部に被洗浄物を収容する洗浄容器と、 内部に前記洗浄容器を保持する洗浄塔と、 洗浄液を貯蔵する洗浄液タンクと、 前記洗浄液タンクと前記洗浄塔との間を洗浄液が循環するように設けられた第1の配管と、 前記第1の配管に設けられ、前記洗浄液タンクから前記洗浄塔へ洗浄液を送出するポンプと、 前記洗浄塔の上部から洗浄液を排出する第2の配管と、 を備え、 洗浄液が前記流入口から前記流出口へ流れることで前記被洗浄物が洗浄されるように構成されたことを特徴とする洗浄装置。
IPC (1)：
H01L 21/304
FI (3)：
H01L21/304 648G ,  H01L21/304 642A ,  H01L21/304 648K
F-Term (4)：
5F157BB03 ,  5F157CD49 ,  5F157CE32 ,  5F157DA21
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (2)

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