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J-GLOBAL ID：200903002289250024

ビーム照射方法及び装置

Inventor： 浅井 雅文
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 伊東 忠彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001105153
Publication number (International publication number)：2002299232
Application date： Apr. 03, 2001
Publication date： Oct. 11, 2002
Summary：

【要約】【課題】 移動する照射対象にビームを照射するためのビーム照射方法及び装置並びにディスク原盤作成方法に関し、移動する照射対象に高速に記録パターンに対応したビーム照射が行なえるビーム照射方法及び装置を提供することを目的とする。【解決手段】 移動するディスクなどの照射対象に電子ビームを照射する際に、照射対象の移動方向に電子ビームを偏向させ、ブランキング動作を行なう。

Claim (excerpt)：

移動する照射対象に、ブランキング動作を行ないつつビームを照射するビーム照射方法であって、前記照射対象の移動方向に沿って前記ビームを移動させ、ブランキング動作を行うことを特徴とするビーム照射方法。

IPC (5)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G11B 7/26 501 ,  H01J 37/147 ,  H01J 37/305

FI (5)：

G03F 7/20 504 ,  G11B 7/26 501 ,  H01J 37/147 E ,  H01J 37/305 B ,  H01L 21/30 541 J

F-Term (15)：

2H097AA03 ,  2H097CA16 ,  2H097GB04 ,  2H097LA20 ,  5C034BB03 ,  5C034BB04 ,  5D121BA03 ,  5D121BB26 ,  5D121BB38 ,  5F056AA02 ,  5F056AA40 ,  5F056CB15 ,  5F056CC07 ,  5F056EA03 ,  5F056EA06