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J-GLOBAL ID：200903002299689873
プラズマ装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993015184
Publication number (International publication number)：1994232043
Application date： Feb. 02, 1993
Publication date： Aug. 19, 1994
Summary：
【要約】【目的】 真空を利用して基体上に薄膜を形成するプラズマ装置において、放電室内壁の汚染を解決し、長時間安定で均一な膜を確保するとともに、放電室内壁の掃除等の簡略化により作業効率の改善を目的とする。【構成】 放電室壁が機密性を持つ外壁2と微細な穴のあいた多孔質の内壁3との二重壁構造からなり、前記外壁2と内壁3の間に空間を有することで前記内壁3全体から不活性ガス9を供給することができ、モノマーガス10プラズマの放電室内壁3の内側への堆積を防止することができるため、長時間安定均一な膜を提供するとともに、放電室内の汚染を防ぐことにより放電室内の清掃等の簡略化により作業効率を改善できる。
Claim (excerpt)：
真空中で基体上に薄膜を形成する放電室を有するプラズマ装置において、放電室壁が機密性を持つ外壁と微細な穴のあいた多孔質の内壁との二重壁構造からなり、前記外壁と内壁の間に空間を有することを特徴とするプラズマ装置。
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (7)
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