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J-GLOBAL ID:200903002323530384

露光装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小池 晃 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994000830
Publication number (International publication number):1995199481
Application date: Jan. 10, 1994
Publication date: Aug. 04, 1995
Summary:
【要約】【構成】 レーザ光源11から出射される露光用のレーザ光を対物レンズ14により集光してガラス原盤1に照射し、データの記録のための露光を行うと共に、ガラス原盤1からの反射光を用いて対物レンズ14のフォーカスサーボをかける際に、コントローラ17は、ミラー部等の非露光部では、レーザ光の強度をフォトレジストが露光しない強度であってフォーカスサーボをかけることができる強度まで低下させるように、パワーコントローラ12を制御する。【効果】 対物レンズの色補正の問題を解決し、露光用のレーザ光の波長を短くすることができ、高密度記録を行うことができる。また、レーザ光源を1つとすることができ、コストを安くすることができる。
Claim (excerpt):
露光用のレーザ光を出射するレーザ光源と、該レーザ光源から出射されるレーザ光の強度を可変する強度可変手段と、上記レーザ光を記録データに基づいて変調する変調手段と、該変調手段により変調されたレーザ光を集光してフォトレジストが塗布された被露光板に照射する対物レンズと、上記被露光板に照射されるレーザ光のスポットを走査する走査手段と、上記被露光板からの反射光を用いて上記対物レンズのフォーカスサーボ制御を行うフォーカスサーボ制御手段と、レーザ光の強度を露光時には上記被露光板に塗布されたフォトレジストが露光する強度とし、非露光時には上記フォトレジストが露光しない強度であって上記フォーカスサーボ制御手段が動作する強度とするように、上記強度可変手段を制御する制御手段とを備えることを特徴とする露光装置。
IPC (3):
G03F 7/20 505 ,  G11B 7/26 501 ,  H01L 21/027

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