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J-GLOBAL ID：200903002334827370

露光装置および半導体製造方法

Inventor： 江渡 良 ,  宮地 剛司
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 阪本 善朗
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997114247
Publication number (International publication number)：1998289875
Application date： Apr. 16, 1997
Publication date： Oct. 27, 1998
Summary：

【要約】【課題】 露光量を均一にするシャッタの性能を向上させる。【解決手段】 X線L1 はシリンドリカルミラー2によってY軸方向に拡大され、シャッタ10を通ってウエハステージ4上のウエハを露光する。シャッタ10は、下縁11aが先行エッジとなる第1のシャッタ幕11と、上縁12aが後行エッジとなる第2のシャッタ幕12を有し、各シャッタ幕11,12はリニアモータ13,14によって直線的に駆動される。ベルト等を用いる場合に比べて、駆動部が簡単で、速度制御の信頼性や応答性が高い。

Claim (excerpt)：

露光光によって露光される基板を保持する基板保持手段と、前記基板の露光量を均一にするための露光量制御手段を有し、該露光量制御手段が、前記露光光の光路を横切って所定の方向に移動自在である遮蔽手段と、これを移動させるリニアモータを備えていることを特徴とする露光装置。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503 ,  G21K 1/04 ,  G21K 5/02

FI (4)：

H01L 21/30 531 A ,  G03F 7/20 503 ,  G21K 1/04 S ,  G21K 5/02 X