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J-GLOBAL ID：200903002338373196
超高真空装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997163576
Publication number (International publication number)：1999016528
Application date： Jun. 20, 1997
Publication date： Jan. 22, 1999
Summary：
【要約】【課題】 小電力で試料室を形成する真空容器を良好に焼き出しすることが出来、焼き出しが終了してから短時間で真空容器が常温になる超高真空装置を提供すること。【解決手段】 第2の真空容器3を焼き出しする場合には、イオンポンプ6を動作させた状態で電流源5を制御してヒータ板4を通電加熱する。第2の真空容器3の厚さは0.5mm〜1mm程度と薄く、第2の真空容器3の熱容量は小さいので、小さい電力で第2の真空容器3を高温に加熱することができる。第2の真空容器3の焼き出しが十分に行われると、ヒータ板4の通電加熱が停止される。第2の真空容器3の熱容量は小さいので、ヒータ板4の通電加熱が停止されると、第2の真空容器3の温度は短時間で常温になる。
Claim (excerpt)：
第1の真空容器と、該第1の真空容器内に配置された第2の真空容器と、該第2の真空容器を加熱する加熱手段と、前記第2の真空容器の内部を排気する排気手段と、前記第1の真空容器と第2の真空容器の間の空間を排気する排気手段を備えたことを特徴とする超高真空装置。
IPC (2)：
FI (2)：
H01J 37/18
, H01J 37/252 Z
