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J-GLOBAL ID：200903002370286823

シンチレータの加工方法

Inventor： 桑原 由則 ,  流王 俊彦
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 小宮 良雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991186429
Publication number (International publication number)：1993027041
Application date： Jul. 25, 1991
Publication date： Feb. 05, 1993
Summary：

【要約】【目的】 加工時間が短く、加工経費が低廉であるとともに、従来のシンチレータと同等の特性が確保されたシンチレータの加工方法を提供する。【構成】 Bi4Ge3O12結晶2の表面のうち、少なくともシンチレーション光の出射面2aを固定砥粒を用いた切削機で鏡面加工する。

Claim (excerpt)：

Bi4Ge3O12結晶の表面のうち、少なくともシンチレーション光の出射面を固定砥粒を用いた切削機で鏡面加工することを特徴とするシンチレータの加工方法。

IPC (3)：

G01T 1/20 ,  A61B 6/03 320 ,  B24B 7/22

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭63-109975
  
• 特開昭57-194374