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J-GLOBAL ID:200903002380335091

感放射線性組成物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000303204
Publication number (International publication number):2002107932
Application date: Oct. 03, 2000
Publication date: Apr. 10, 2002
Summary:
【要約】【課題】非常に微細なパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度な感放射線性組成物を得る。【解決手段】フッ素を含有する置換基を有するシロキサンポリマーおよび放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有することを特徴とする感放射線性組成物であり、またはフッ素を含有する置換基を有するシロキサンポリマーおよび放射線の照射によって塩基を発生する塩基発生剤を含有することを特徴とする感放射線性組成物。
Claim (excerpt):
フッ素を含有する置換基を有するシロキサンポリマーおよび放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有することを特徴とする感放射線性組成物。
IPC (7):
G03F 7/038 601 ,  C08K 5/00 ,  C08L 83/08 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/075 511 ,  H01L 21/027
FI (7):
G03F 7/038 601 ,  C08K 5/00 ,  C08L 83/08 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/004 503 B ,  G03F 7/075 511 ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (28):
2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BF07 ,  2H025BF30 ,  2H025CC20 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J002CP081 ,  4J002EB116 ,  4J002EB126 ,  4J002EN006 ,  4J002EN136 ,  4J002EQ016 ,  4J002ER006 ,  4J002ES006 ,  4J002EU136 ,  4J002EU186 ,  4J002EV216 ,  4J002EV246 ,  4J002EV266 ,  4J002EV296 ,  4J002FD206

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